Ons moet nou baie vertroud wees met die teiken, nou neem die teikenmark ook toe, die volgende is die hoofprestasie van sputtering teiken gedeel deur redakteur van RSM
Die reinheid
Suiwerheid van teikenmateriaal is een van die belangrikste prestasie-indekse, want die suiwerheid van teikenmateriaal het 'n groot invloed op die werkverrigting van dun film.In praktiese toepassing is die suiwerheidsvereistes van teikenmateriale egter nie dieselfde nie.Byvoorbeeld, met die vinnige ontwikkeling van die mikro-elektroniese industrie, is die silikonskyfiegrootte van 6 ", 8 "tot 12" ontwikkel, en die bedradingwydte is verminder van 0.5um tot 0.25um, 0.18um of selfs 0.13um.Voorheen kan die suiwerheid van 99,995% teikenmateriaal aan die prosesvereistes van 0,35umIC voldoen.Die suiwerheid van die teikenmateriaal is 99.999% of selfs 99.9999% vir die voorbereiding van 0.18um lyne.
Onreinheid inhoud
Die onsuiwerhede in die teiken vaste stof en die suurstof en waterdamp in die porieë is die hoofbesoedelingsbronne van filmneerlegging.Teikenmateriaal vir verskillende doeleindes het verskillende vereistes vir verskillende onsuiwerheidsinhoud.Byvoorbeeld, suiwer aluminium en aluminiumlegerings teikens wat in die halfgeleierbedryf gebruik word, het spesiale vereistes vir die inhoud van alkalimetale en radioaktiewe elemente.
Die digtheid
Ten einde die porositeit in die teiken vaste stof te verminder en die werkverrigting van die sputterfilm te verbeter, word hoë digtheid van die teiken gewoonlik vereis.Die digtheid van die teiken beïnvloed nie net die sputtertempo nie, maar ook die elektriese en optiese eienskappe van die film.Hoe hoër die teikendigtheid, hoe beter is die filmprestasie.Daarbenewens maak die verhoging van die digtheid en sterkte van die teiken die teiken beter weerstaan die termiese spanning in die sputterproses.Digtheid is ook een van die sleutelprestasie-indekse van teiken.
Korrelgrootte en korrelgrootte verspreiding
Die teiken is gewoonlik polikristallyn met korrelgrootte wat wissel van mikrometer tot millimeter.Vir dieselfde teiken is die sputtertempo van die teiken met klein korrels vinniger as dié van die teiken met groot korrels.Die dikteverspreiding van die films wat deur sputtering teiken met kleiner korrelgrootte verskil (eenvormige verspreiding) neergelê word, is meer eenvormig.
Postyd: Aug-04-2022